特許

J-GLOBAL ID：200903076037872727

レジスト構成材料の精製方法

発明者： 並木 崇久 ,  矢野 映 ,  渡部 慶二 ,  五十嵐 美和 ,  倉光 庸子 ,  野崎 耕司
出願人/特許権者： 富士通株式会社
代理人 (1件)： 井桁 貞一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-033974
公開番号（公開出願番号）：特開平7-243761
出願日： 1994年03月04日
公開日（公表日）： 1995年09月19日
要約：

【要約】【目的】 レジスト構成材料の精製方法に関し、効率の良い精製方法の実用化を目的とする。【構成】 レジストを構成するそれぞれの材料を凍結乾燥法を用いて粉末状態とした後、この粉末をこの材料の貧溶媒で洗浄して材料中に含まれる不純物を除去した後、乾燥することを特徴としてレジスト構成材料の精製方法を構成する。

請求項（抜粋）：

レジストを構成するそれぞれの材料を粉末状態とした後、該材料の貧溶媒で洗浄して該材料中に含まれる不純物を除去した後、乾燥することを特徴とするレジスト構成材料の精製方法。

IPC (4件)：

F26B 5/06 ,  B01D 11/00 ,  G03F 7/004 501 ,  H01L 21/027