特許

J-GLOBAL ID：200903076040864590

非金属めっき方法、基板並びにこれを含むデータ記憶及び検索装置

発明者： スティーブン・フランシス・スターク ,  ジョン・デビッド・アマンドソン ,  ダグラス・ハワード・ピルティングスラド ,  ジェームズ・アロイシアス・ヘイガン
出願人/特許権者： インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション
代理人 (1件)： 合田 潔 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-126675
公開番号（公開出願番号）：特開平9-143747
出願日： 1996年05月22日
公開日（公表日）： 1997年06月03日
要約：

【要約】【課題】 耐欠陥性に優れ、滑らかな基板表面(原子的な滑らかさ)を提供し、比較的薄く、低質量を有し、高度なスチフネス(stiffness)及び硬さを有する、プロセス及びそれにより生成される物品を提供すること。【解決手段】 非金属基板をめっきする方法が、基板上に付着強化膜を付着する工程と、この膜が触媒として作用するようにこれを処理する工程と、付着強化膜上に外部コーティング及び不動態化めっきを形成する工程とを含む。生成されるめっき化非金属基板は内部基板として使用される任意の数の材料を含み、それらには酸化物、窒化物、リン化物、炭化物、ガラス、セラミック、及びそれらの混合物の化合物が含まれる。結果の基板(24)は、多くのデータ記憶及び検索アプリケーション(20)において使用されうる。

請求項（抜粋）：

非金属基板をめっきする方法であって、a)前記基板上に付着強化膜を付着する工程と、b)前記付着強化膜を触媒的にするために、前記膜上に触媒材料を付着することにより前記膜を処理する工程と、c)前記触媒付着強化膜上に外部めっきを形成する工程と、を含む、方法。

IPC (3件)：

C23C 18/28 ,  G11B 5/66 ,  G11B 5/84

FI (3件)：

C23C 18/28 A ,  G11B 5/66 ,  G11B 5/84 Z