特許
J-GLOBAL ID：200903076087441344
物体の姿勢測定装置、姿勢測定方法、姿勢制御装置および物体表面の検査装置
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-185585
公開番号（公開出願番号）：特開平8-086631
出願日： 1995年07月21日
公開日（公表日）： 1996年04月02日
要約：
【要約】【課題】 物体表面のチルト量を高速かつ高精度に求めることができる物体の姿勢測定装置および姿勢測定方法ならびにこれを利用した物体の姿勢制御装置および物体の表面検査装置を提供すること。【解決手段】本発明の物体の姿勢測定装置は、複数の異なるチルト姿勢における光学干渉縞画像を取り込み、干渉縞の空間周波数を求め、チルト量を測定することにより、チルト量の絶対値とその向きを自動的に測定する。また、本発明の物体の表面検査装置は、かかる物体の姿勢測定装置を用いて物体の姿勢を制御し、この状態で表面検査を行なう。
請求項（抜粋）：
光源と、光学参照面と、該光学参照面に対して光学干渉性を示す表面を有する物体を保持する物体保持手段と、前記光源による前記表面の光学参照面に対する光学干渉縞画像の撮像手段と、撮像された該光学干渉縞画像の輝度変化に基づいて前記表面の前記光学参照面に対するチルト量を算出するチルト量算出手段とを備えてなることを特徴とする物体の姿勢測定装置。
IPC (5件)：
G01B 11/26
, G01B 11/00
, G01B 11/30 102
, G01N 21/88
, G05D 3/12
