基板処理装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：杉谷勉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-111771
公開番号（公開出願番号）：特開2004-319767
出願日： 2003年04月16日
公開日（公表日）： 2004年11月11日
要約：

【課題】スループットを向上させることができる基板処理装置を提供することを目的とする。【解決手段】この基板処理装置は、処理部と単一の主搬送機構とを含んでそれぞれが構成されている反射防止膜用処理ブロック2とレジスト膜用処理ブロック3と現像処理ブロック4とを並設してある。異常発生時に、その異常に関わるブロックに基板Wを受け入れ禁止に制御するので、異常が解消されて受け入れを再開しても、その処理ブロック基板Wを即座に受け入れることができ、スループットを向上させることができる。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

基板処理を行う処理部と、その処理部に対して基板の受け渡しを行う主搬送機構とを含んで単一の処理ブロックを構成し、処理ブロックを並設して構成される基板処理装置であって、主搬送機構を制御する制御手段を備え、各処理ブロックに、その処理ブロックに基板を受け入れるために基板を載置する入口基板載置部と、その処理ブロックから基板を払い出すために基板を載置する出口基板載置部とを区別して配設し、制御手段は、異常発生時に、その異常に関わる処理ブロックに基板を受け入れ禁止に制御することを特徴とする基板処理装置。

IPC (2件)：

H01L21/68 , H01L21/027

FI (2件)：

H01L21/68 A , H01L21/30 562

Fターム (26件)：

5F031CA02 , 5F031CA05 , 5F031CA07 , 5F031FA01 , 5F031FA02 , 5F031FA11 , 5F031FA12 , 5F031FA15 , 5F031GA03 , 5F031GA49 , 5F031LA12 , 5F031LA13 , 5F031MA02 , 5F031MA03 , 5F031MA04 , 5F031MA06 , 5F031PA03 , 5F031PA10 , 5F031PA30 , 5F046CD01 , 5F046CD05 , 5F046CD06 , 5F046JA22 , 5F046KA10 , 5F046LA18 , 5F046LB09

引用特許：

審査官引用 (8件)

基板処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-337053 出願人：東京エレクトロン株式会社
基板処理装置および方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-203468 出願人：大日本スクリーン製造株式会社
特表平3-500833

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