特許
J-GLOBAL ID：200903076089823295
画像プロセス装置における光受容体面の欠陥監視方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
吉田 研二 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-044072
公開番号（公開出願番号）：特開平11-288198
出願日： 1999年02月23日
公開日（公表日）： 1999年10月19日
要約：
【要約】【課題】 複雑多機能化している複写機械において、光受容体の不具合を容易にまた自動的に検知し効率的なトラブルシューティングを実現する。【解決手段】 不具合検出のためのテストの一つとして光受容体パッチ均一性テスト128が実行される。このテストでは、黒色トナー領域被覆度(BTAC)センサにより、光受容体面の全体について1.5mmごとにサンプルをとる。シーム検出アルゴリズムを使用し、シームサンプルを捨て、残りのサンプルから清浄ベルトの総合的均一性を示す値を計算する。この値は基準値として使用する。シームの位置は判っているので、各プロセス制御パッチの位置と、対応するBTAC読み取り値を解析することができる。各パッチに対し平均と分散を求め基準値と比較する。統計解析により、各位置の均一性を計算し、基準値と比較する。均一性が許容レベルより低ければ、ベルトの取り替えをオペレータに通知する。
請求項（抜粋）：
現像されたプロセス制御テストパッチを監視するための制御システム及びセンサーシステムを含む画像プロセス装置における光受容体面の欠陥を監視する方法において、光受容体面の全面に亘る一連の読み取りのうちにおける光受容体面のむき出し部分の反射率を監視するステップと、清浄ベルト全体での均一性の測値を算出するステップと、ベルトの前記均一性の測値から各プロセス制御テストパッチの平均と分散を確定するステップと、ベルトの前記均一性から得られる各プロセス制御テストパッチの前記平均と前記分散に応じて、各プロセス制御パッチの均一性の係数を求めるステップと、前記光受容体面の均一性のレベルが許容レベルより低いことを判定するステップと、を有する欠陥監視方法。
IPC (2件)：
G03G 21/00 510
, G03G 21/00 350
G03G 21/00 510
, G03G 21/00 350
