特許

J-GLOBAL ID：200903076090154755

基板処理装置

発明者： 樋本 政弘
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 五十嵐 孝雄 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-093655
公開番号（公開出願番号）：特開平5-267267
出願日： 1992年03月19日
公開日（公表日）： 1993年10月15日
要約：

【要約】【目的】 特定の処理液供給手段からの処理液の供給を中断せざるを得ない場合であっても、装置の一時停止を回避して装置の稼働効率を向上させる。【構成】 作業者により第1ないし第3の中断配管指示スイッチのいずれかが押圧され、更にその後、パージ処理開始スイッチが押圧されると、それら中断配管指示スイッチにより特定されるいずれかの処理液供給管上において処理液をドレン容器側に流出させるパージ処理を実行する。しかも、中断配管指示スイッチのいずれかが押圧されてからパージ処理が終了するまでの間においては、中断配管指示スイッチで特定された一の処理液供給管を流出する処理液を使用する基板処理手順に関してその基板処理手順に基づく基板処理の実行が禁止され、その処理液以外の処理液を使用する基板処理手順に関しては通常通り基板処理の実行がなされる(ステップ250)。

請求項（抜粋）：

基板に対して異なる種類の処理液をそれぞれ供給する複数の処理液供給手段と、基板に供給の必要な処理液の種類を始めとする各種処理条件を規定する基板処理手順を複数記憶する記憶手段と、前記記憶手段に記憶された複数の基板処理手順を順に読み取り、読み取った基板処理手順に基づいて、少なくとも前記複数の処理液供給手段から、読み取った基板処理手順が規定している処理液供給手段を選択的に制御して基板処理の実行を制御する制御手段とを備える基板処理装置において、前記複数の処理液供給手段の内、所望の処理液供給手段を、処理液供給手段として直接的に、あるいは処理液供給手段に供給される処理液として間接的に特定することにより、処理液の供給を一時中断したい処理液供給手段を指示入力する中断指示入力手段と、前記記憶手段に記憶された複数の基板処理手順の中から、前記中断指示入力手段で指示された処理液供給手段から供給される処理液の種類を規定する基板処理手順を判別する特定基板処理手順判別手段とを設け、さらに、前記制御手段は、前記特定基板処理手順判別手段で判別された基板処理手順に基づく基板処理の実行を禁止するとともに、前記基板処理手順判別手段で判別された基板処理手順以外の基板処理手順に基づく基板処理の実行を許可する実行指示部を備えたことを特徴とする基板処理装置。

IPC (2件)：

H01L 21/304 341 ,  H01L 21/027

FI (2件)：

H01L 21/30 361 C ,  H01L 21/30 361 L