特許
J-GLOBAL ID：200903076090852215
電子線回折装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
塩野入 章夫 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-074967
公開番号（公開出願番号）：特開平7-282769
出願日： 1994年04月13日
公開日（公表日）： 1995年10月27日
要約：
【要約】【目的】 結晶状態の分布を正確に表すことができ、また、回折パターンからの特徴的な回折斑点の選択を必要としない電子線回折装置を提供する。【構成】 走査される電子線を試料3に照射して得られる回折パターンによって試料表面の結晶状態の分布像を求める電子線回折装置において、回折パターンを撮像する撮像装置7と、基準回折パターンを格納する画像メモリ14と、撮像装置によって得られる回折パターンと画像メモリに格納されている回折パターンとの比較により両回折パターンの類似度を求める画像処理装置13とを備え、類似度に基づいて試料表面の結晶状態の分布像を求める。
請求項（抜粋）：
走査される電子線を試料に照射して得られる回折パターンによって試料表面の結晶状態の分布像を求める電子線回折装置において、前記回折パターンを撮像する撮像装置と、基準回折パターンを格納する画像メモリと、前記撮像装置によって得られる回折パターンと前記画像メモリに格納されている回折パターンとの比較により両回折パターンの類似度を求める画像処理装置とを備え、前記類似度に基づいて試料表面の結晶状態の分布像を求めることを特徴とする電子線回折装置。
IPC (2件)：
H01J 37/295
, H01J 37/22 502
