X線露光装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：滝本智之 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-086173
公開番号（公開出願番号）：特開平9-283399
出願日： 1996年04月09日
公開日（公表日）： 1997年10月31日
要約：

【要約】【課題】 X線マスクで転写されるLSIパターンとウェハ上にすでに転写されているLSIパターンとの重ねあわせ精度を、チップサイズが大きくなっても向上させるX線露光装置を提供する。【解決手段】 X線露光装置が、複数のX線マスクを同時に装着できるマスクステージ機構13と、マスクステージ13に装着された複数のX線マスクの位置関係を所定の重ねあわせ精度でアライメントを行う機構と、マスクステージが所定の範囲にわたって駆動可能な移動機構と、複数のマスクステージに装着されたX線マスクが実質同一の位置になるよう駆動できる移動機構とを有している。このX線露光装置によりひとつのチップを小さな複数のX線マスクにより転写させる。

請求項（抜粋）：

複数のX線マスクを同時に装着できるマスクステージ機構と、前記マスクステージに装着された前記複数のX線マスクの位置関係を所定の重ねあわせ精度でアライメントを行う機構と、前記マスクステージが所定の範囲にわたって駆動可能な移動機構と、前記複数のマスクステージに装着されたX線マスクが実質同一の位置になるよう駆動できる移動機構とを有することを特徴とするX線露光装置。

IPC (4件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 503 , G03F 7/20 521 , G21K 5/02

FI (5件)：

H01L 21/30 531 A , G03F 7/20 503 , G03F 7/20 521 , G21K 5/02 X , H01L 21/30 531 J

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