特許

J-GLOBAL ID：200903076103400157

露光装置

発明者： 岡谷 秀樹
出願人/特許権者： 日本精工株式会社 ,  NSKプレシジョン株式会社
代理人 (3件)： 森 哲也 ,  内藤 嘉昭 ,  崔 秀▲てつ▼
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-326597
公開番号（公開出願番号）：特開2005-091903
出願日： 2003年09月18日
公開日（公表日）： 2005年04月07日
要約：

【課題】 マスク側のパターンをワークに正確に露光転写できると共に、マスクに塵等が付着したりマスクが自重で変形するのを防止でき、更に、装置の設置スペースを小さくする。【解決手段】 帯状のワーク12を所定の送り量でタクト搬送して、露光位置Pに送られた前記ワークにマスク18,19のパターンを露光転写するようにした露光装置において、前記ワーク12を略鉛直方向に搬送する。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

帯状のワークを所定の送り量でタクト搬送して、露光位置に送られた前記ワークにマスクのパターンを露光転写するようにした露光装置において、前記ワークを略鉛直方向に搬送することを特徴とする露光装置。

IPC (1件)：

G03F7/20

FI (1件)：

G03F7/20 501

Fターム (8件)：

2H097AA01 ,  2H097AB07 ,  2H097BB04 ,  2H097CA12 ,  2H097DB07 ,  2H097DB20 ,  2H097LA10 ,  2H097LA20