薄膜構造の解析方法及びその装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：高橋明夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-118597
公開番号（公開出願番号）：特開平9-304308
出願日： 1996年05月14日
公開日（公表日）： 1997年11月28日
要約：

【要約】【課題】薄膜内部から放出される蛍光X線の角度分布から薄膜の構造(蛍光X線を放出する原子の薄膜内での位置)を基板に依存しないで求める手法の提供。【解決手段】薄膜内部に蛍光X線を放射する原子が存在する場合、放射されたX線は薄膜上下の界面で反射屈折され、更にこれによって生じる複数の光路を通るX線が互いに干渉するために、放射されるX線の角度分布に干渉縞が現れる。この干渉縞は薄膜表面とX線の放出方向の為す角度がその全反射臨界角より僅かに大きい範囲の非常に狭い角度域に顕著に現れる。薄膜表面とX線放出方向が0度から1度程度の狭い領域をスリットを動かして走査することによって放出されるX線の角度分布を測定する。測定された角度分布を光路可逆性の定理によって計算した結果と比較することによって薄膜内部でX線を放射した原子の位置座標を求める。

請求項（抜粋）：

薄膜試料内に単色もしくは狭いバンド幅のX線を放出する物体を有する試料を準備すること、該X線を放出する物体から放出されるX線の角度分布を薄膜試料表面と放出方向の為す角が0度からそのX線に対する全反射臨界角より大きくかつ2度を越えない領域で検出すること、得られた角度分布を薄膜試料の両端の界面における反射、屈折の結果生じる干渉効果として計算した角度分布と比較対照することによってX線を放出した物体の薄膜内部での位置座標を求めることを特徴とする薄膜構造の解析方法。

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