特許

J-GLOBAL ID：200903076114501850

周辺露光装置およびそれを備えた基板処理装置

発明者： 東 小由里
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-122517
公開番号（公開出願番号）：特開2002-319529
出願日： 2001年04月20日
公開日（公表日）： 2002年10月31日
要約：

【要約】【課題】基板周辺部を露光する際に処理効率を向上させることが可能な基板の周辺露光装置を提供する。【解決手段】スピンチャック11上に保持された基板W周辺部の全周の長さを等分割する位置を照射するように光照射部の照射端20A、20Bをそれぞれ配置し、基板Wを回転させながら各照射端20A、20Bにより光源28A、28Bからの紫外線を照射して基板Wの周辺露光を行う。

請求項（抜粋）：

基板表面において所定の転写パターンが形成される素子領域の外側の基板周辺部に対して露光処理を行なう周辺露光装置であって、基板を保持する保持手段と、露光処理のための光を発生する光源と、前記光源からの光を受けて前記基板周辺部に対して光を照射する少なくとも2つの光照射手段と、前記光源と前記光照射手段とを接続し、前記光源からの光を前記光照射手段に伝達する光伝達部材と、前記保持手段と前記各光照射手段とを相対的に移動させる相対移動手段と、を備えたことを特徴とする周辺露光装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521

FI (2件)：

G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 577

Fターム (6件)：

5F046BA07 ,  5F046CB04 ,  5F046CB20 ,  5F046CB21 ,  5F046CC06 ,  5F046CC15