特許
J-GLOBAL ID：200903076118499559
回転塗布装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
杉谷 勉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-140807
公開番号（公開出願番号）：特開平7-326568
出願日： 1994年05月30日
公開日（公表日）： 1995年12月12日
要約：
【要約】【目的】 薄膜形成後の基板の周辺部に針状ノズルから溶解液を吐出して、基板周辺部の不要薄膜を溶解除去する薄膜除去装置を備えた回転塗布装置において、針状ノズルの先端に残留した溶解液の雫を無接触状態で除去して、基板へのぼた落ちや有効エリアに飛散付着するのを確実に防止する。【構成】 針状ノズル3の先端近傍に、針状ノズル先端に残存する溶解液の雫を吸引除去する吸引ノズル4を臨設し、針状ノズル3と吸引ノズル4とを一体に作用位置と待機位置とに亘って移動可能に構成する。
請求項（抜粋）：
回転テーブル上に載置保持した基板の表面に回転塗布によって薄膜を形成するとともに、薄膜形成後の基板の周辺部に針状ノズルから溶解液を吐出して、基板周辺部の不要薄膜を溶解除去する薄膜除去装置を備えた回転塗布装置において、前記針状ノズルの先端近傍に、針状ノズル先端に残存する溶解液の雫を吸引除去する吸引ノズルを臨設し、針状ノズルと吸引ノズルとを一体に作用位置と待機位置とに亘って移動可能に構成してあることを特徴とする回転塗布装置。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, B05C 11/08
, G03F 7/16 502
