特許

J-GLOBAL ID：200903076123448180

ニカルジピン持続性製剤とその製造方法

発明者： 柴原 貞一 ,  余野 充啓 ,  重藤 秀子 ,  高橋 哲也
出願人/特許権者： 大正薬品工業株式会社
代理人 (1件)： 青山 葆 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-303670
公開番号（公開出願番号）：特開平6-157313
出願日： 1992年11月13日
公開日（公表日）： 1994年06月03日
要約：

【要約】【目的】 特に胃液と腸液における吸収性が適宜に調節されており、ニカルジピンの初期効果と持続効果が円滑に発揮されるニカルジピン持続性製剤とその製造方法を提供することを、その目的とする。【構成】(a)ニカルジピンおよびその塩から選択された少なくとも1種、カルボキシメチルエチルセルロースおよびヒドロキシプロピルメチルセルロースアセテートサクシネートから選択された少なくとも1種ならびに二酸化ケイ素およびメタケイ酸アルミン酸マグネシウムから選択された少なくとも1種を必須成分とする混合物の粒状体、(b)当該粒状体の表面に形成せしめたカルボキシメチルエチルセルロースなどの薬物放出制御被覆層、および(c)当該被覆層の表面に形成せしめた、上記(a)における混合物の付着層から成ることを、その構成とする。

請求項（抜粋）：

(a)ニカルジピンおよびその塩から選択された少なくとも1種、カルボキシメチルエチルセルロースおよびヒドロキシプロピルメチルセルロースアセテートサクシネートから選択された少なくとも1種ならびに二酸化ケイ素およびメタケイ酸アルミン酸マグネシウムから選択された少なくとも1種を必須成分とする混合物の粒状体、(b)当該粒状体の表面に形成せしめた、カルボキシメチルエチルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロースアセテートサクシネート、エチルセルロースおよびポリビニルアセタールジエチルアミノアセテートから選択された少なくとも1種を必須成分とする薬物放出制御被覆層、および(c)当該被覆層の表面に形成せしめた、上記(a)における混合物の付着層から成ることを特徴とするニカルジピン持続性製剤。

IPC (3件)：

A61K 31/455 ABR ,  A61K 9/14 ,  A61K 47/38

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開平4-234812
  
• 特開平4-159222
  
• 特開昭61-000008