特許

J-GLOBAL ID：200903076128992857

ネガ型レジスト組成物

発明者： 安波 昭一郎 ,  高橋 表 ,  阿出川 豊
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (1件)： 小栗 昌平 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-182117
公開番号（公開出願番号）：特開2002-372783
出願日： 2001年06月15日
公開日（公表日）： 2002年12月26日
要約：

【要約】【課題】 活性光線又は放射線、特に電子線又はX線を使用する半導体素子の微細加工において、感度と解像性、矩形なパターン形状、良好なエッジラフネスの特性を同時に満足するネガ型レジスト組成物を提供すること。【解決手段】 (A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、(B)アルカリ可溶性樹脂(C)酸の作用により(B)の樹脂と架橋を生じる架橋剤、(D)分子内に2級〜3級の脂環式環状アミノ基から選ばれる少なくとも1種のアミノ基と、少なくとも1種のカルボキシル基をともに含む化合物を含有することを特徴とするネガ型レジスト組成物。

請求項（抜粋）：

(A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、(B)アルカリ可溶性樹脂(C)酸の作用により(B)の樹脂と架橋を生じる架橋剤、(D)分子内に2級〜3級の脂環式環状アミノ基から選ばれる少なくとも1種のアミノ基と、少なくとも1種のカルボキシル基をともに含む化合物を含有することを特徴とするネガ型レジスト組成物。

IPC (3件)：

G03F 7/038 601 ,  G03F 7/004 501 ,  H01L 21/027

FI (3件)：

G03F 7/038 601 ,  G03F 7/004 501 ,  H01L 21/30 502 R

Fターム (11件)：

2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AB16 ,  2H025AC05 ,  2H025AC06 ,  2H025AD01 ,  2H025BE00 ,  2H025CB17 ,  2H025CB42 ,  2H025CC17 ,  2H025CC20