特許

J-GLOBAL ID：200903076150401161

ポジ型フォトレジスト組成物

発明者： 高橋 表 ,  佐藤 健一郎 ,  安波 昭一郎
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (1件)： 小栗 昌平 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-150172
公開番号（公開出願番号）：特開2001-330956
出願日： 2000年05月22日
公開日（公表日）： 2001年11月30日
要約：

【要約】【課題】感度及び解像度に優れ、しかもデフォーカスラチチュードが大きくプロセス許容性に優れたポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。【解決手段】(A)珪素原子を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、(B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、(C)露光用のエネルギー線の照射により分解しないアンモニウム塩、及び(D)溶剤を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。

請求項（抜粋）：

(A)珪素原子を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、(B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、(C)露光用のエネルギー線の照射により分解しないアンモニウム塩、及び、(D)溶剤を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。

IPC (8件)：

G03F 7/039 601 ,  C08F 8/12 ,  C08F230/08 ,  C08K 5/00 ,  C08K 5/19 ,  C08L101/00 ,  G03F 7/004 501 ,  H01L 21/027

FI (8件)：

G03F 7/039 601 ,  C08F 8/12 ,  C08F230/08 ,  C08K 5/00 ,  C08K 5/19 ,  C08L101/00 ,  G03F 7/004 501 ,  H01L 21/30 502 R

Fターム (77件)：

2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AB15 ,  2H025AB16 ,  2H025AB17 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE07 ,  2H025BE08 ,  2H025BF03 ,  2H025BF30 ,  2H025CB43 ,  2H025CC20 ,  2H025FA17 ,  4J002AA001 ,  4J002BG041 ,  4J002BG051 ,  4J002BG071 ,  4J002BH021 ,  4J002BQ001 ,  4J002EB116 ,  4J002ED028 ,  4J002EH038 ,  4J002EH158 ,  4J002EL068 ,  4J002EN137 ,  4J002EP018 ,  4J002EU028 ,  4J002EU186 ,  4J002EU216 ,  4J002EV208 ,  4J002EV216 ,  4J002EV296 ,  4J002FD200 ,  4J002FD206 ,  4J002FD207 ,  4J002FD208 ,  4J002FD310 ,  4J002GP03 ,  4J100AK32R ,  4J100AL03Q ,  4J100AL08Q ,  4J100AL36Q ,  4J100AL41Q ,  4J100AL46Q ,  4J100AM39Q ,  4J100AM43R ,  4J100AM45R ,  4J100AM47R ,  4J100AP16P ,  4J100BA03H ,  4J100BA03R ,  4J100BA06Q ,  4J100BA11Q ,  4J100BA20Q ,  4J100BA34Q ,  4J100BA40Q ,  4J100BA53Q ,  4J100BA55R ,  4J100BA58Q ,  4J100BA59Q ,  4J100BA71P ,  4J100BA72Q ,  4J100BA77P ,  4J100BA80P ,  4J100BB01P ,  4J100BB18R ,  4J100BC04Q ,  4J100BC09Q ,  4J100BC27Q ,  4J100BC27R ,  4J100BC53Q ,  4J100CA04 ,  4J100CA05 ,  4J100JA38