特許

J-GLOBAL ID：200903076151029762

塗布液、その製造方法および被膜付基材

発明者： 平 井 俊 晴 ,  小 松 通 郎 ,  岩 崎 幸 博 ,  安 部 米 司
出願人/特許権者： 触媒化成工業株式会社
代理人 (1件)： 鈴木 俊一郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-246680
公開番号（公開出願番号）：特開平6-212125
出願日： 1993年10月01日
公開日（公表日）： 1994年08月02日
要約：

【要約】【目的】 無機化合物微粒子が単分散状態で含まれている被膜を有し、反射防止性能、帯電防止性能などに優れている被膜付基材、このような被膜付基材が形成できる塗布液およびその製造方法を提供する。【構成】 無機化合物微粒子および/または特定のマトリックスを水および/または有機溶媒中に分散または溶解して含み、イオン濃度が液中に含まれる全固形分100g当り10ミリモル以下である塗布液、塗布液の製造過程で無機化合物微粒子分散液、特定のマトリックスを含む液、これらの混合液、または塗布液に陽イオンおよび/または陰イオンの除去処理を行なってイオン濃度を液中に含まれる全固形分100g当り10ミリモル以下に調製する塗布液の製造方法、および前記塗布液を用いて形成した単層被膜または積層被膜を有する被膜付基材。

請求項（抜粋）：

無機化合物微粒子、および/またはアセチルアセトナトキレート、アルコキシシランおよび金属アルコキシドの部分加水分解物から選ばれた少なくとも1種のマトリックスを、水および/または有機溶媒中に分散または溶解して含む塗布液であって、この塗布液中のイオン濃度が、該塗布液中に含まれる全固形分100g当たり10ミリモル以下であることを特徴とする塗布液。

IPC (5件)：

C09D183/04 PMT ,  B32B 9/00 ,  C09D 5/24 PQW ,  C09D185/00 PMW ,  H01B 5/14

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開昭64-054613
  
• 特開昭62-226815
  
• 特開昭63-152675