特許

J-GLOBAL ID：200903076177154387

洗浄乾燥装置

発明者： 山本 正志 ,  満田 勝弘 ,  新村 嘉朗 ,  小俣 茂 ,  野口 雄二 ,  本田 善次郎 ,  三原 和雄 ,  中塚 修志 ,  白井 秀樹
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所 ,  日立電子エンジニアリング株式会社 ,  ダイセル化学工業株式会社 ,  ヘキストジャパン株式会社
代理人 (1件)： 筒井 大和
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-325230
公開番号（公開出願番号）：特開平6-177108
出願日： 1992年12月04日
公開日（公表日）： 1994年06月24日
要約：

【要約】【目的】 ウエハ洗浄乾燥装置に設けられたIPA(イソプロピルアルコール)再生装置の小型化を実現する。【構成】 ウエハ11をIPA蒸気7に曝してウエハ11の表面の水分を除去する洗浄槽3と、この洗浄槽3で生成したIPA-水混液中の水分を分離してIPAを再生する有機物分離用半透膜モジュール24と、この有機物分離用半透膜モジュール24により再生されたIPAを精製する蒸留塔31とを有し、有機物分離用半透膜モジュール24を蒸留塔31の内部に収容した洗浄乾燥装置1である。

請求項（抜粋）：

被処理物を有機溶媒の蒸気に曝して前記被処理物の表面の水分を除去する洗浄槽と、前記洗浄槽で生成した有機溶媒-水混液中の水分を分離して有機溶媒を再生する有機物分離用半透膜モジュールと、前記有機物分離用半透膜モジュールにより再生された有機溶媒を精製する蒸留塔とを有し、前記有機物分離用半透膜モジュールを前記蒸留塔の内部に収容したことを特徴とする洗浄乾燥装置。