特許

J-GLOBAL ID：200903076186090006

高滑水性被膜基材およびその製造方法

発明者： 赤松 佳則 ,  公文 創一 ,  荒井 宏明 ,  濱口 滋生
出願人/特許権者： セントラル硝子株式会社
代理人 (1件)： 西 義之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-099492
公開番号（公開出願番号）：特開2002-294152
出願日： 2001年03月30日
公開日（公表日）： 2002年10月09日
要約：

【要約】【課題】 膜中の滑水成分の保持性を向上させ、高滑水性とともに高耐久性をも有する高滑水性被膜を形成すること。【解決手段】 基材表面に、アルコキシシランを加水分解および重縮合させて得られる被膜のマトリックスとしてのシリカゾルと、平均重合度が10〜300であるシラノール末端ジメチルシリコーンとイソシアネート基含有アルコキシシランからなる滑水成分としてのシラン化ジメチルシリコーンとの混合ゾルを被覆すること。

請求項（抜粋）：

基材表面に、アルコキシシランを加水分解および重縮合させて得られる被膜のマトリックスとしてのシリカゾルと、一般式[1]で表される平均重合度が10〜300であるシラノール末端ジメチルシリコーンと一般式[2]で表されるイソシアネート基含有アルコキシシランからなる滑水成分としてのシラン化ジメチルシリコーンとの混合ゾルを被覆してなることを特徴とする高滑水性被膜基材。【化1】ここで、nは整数Rx-Si(CH3)m(OR)3-m [2]ここで、 m:0〜2の整数、-OR:アルコキシ基、Rx:末端がイソシアネート基である1価の直鎖有機基

IPC (5件)：

C09D183/02 ,  C03C 17/30 ,  C09D 5/00 ,  C09D183/04 ,  C09D183/08

FI (5件)：

C09D183/02 ,  C03C 17/30 A ,  C09D 5/00 Z ,  C09D183/04 ,  C09D183/08

Fターム (20件)：

4G059AA01 ,  4G059AC22 ,  4G059AC30 ,  4G059FA07 ,  4G059FA22 ,  4G059FB06 ,  4J038DL021 ,  4J038DL031 ,  4J038DL081 ,  4J038KA06 ,  4J038LA02 ,  4J038MA14 ,  4J038NA06 ,  4J038NA11 ,  4J038PA18 ,  4J038PA19 ,  4J038PB02 ,  4J038PB05 ,  4J038PB07 ,  4J038PC03