特許
J-GLOBAL ID：200903076186615745
プラズマ処理装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高田 幸彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-311630
公開番号（公開出願番号）：特開平6-158361
出願日： 1992年11月20日
公開日（公表日）： 1994年06月07日
要約：
【要約】【目的】本発明の目的は、ウェハ押えがなく、しかもスループットが高いプラズマ処理装置を提供するにある。【構成】試料と試料載置台間に満たされる伝熱媒体の導入管を真空処理室と連通させる。【効果】伝熱媒体が真空処理室にバイパスされるので、ウェハ押えがなくてもウェハが載置台から浮上がることがない。したがって、ウェハ押えを除くことができる。
請求項（抜粋）：
所定の圧力に減圧排気された真空処理室内に処理ガスを供給して処理ガスのプラズマを発生させ、プラズマに対向して配置した試料を処理するプラズマ処理装置において、試料と試料載置台間に満たされる伝熱媒体の導入管を上記真空処理室と連通させたことを特徴とするプラズマ処理装置。
IPC (3件)：
C23F 4/00
, C23C 16/50
, H01L 21/302
