特許
J-GLOBAL ID：200903076205180810
光加工装置
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-316043
公開番号（公開出願番号）：特開平5-206558
出願日： 1986年08月08日
公開日（公表日）： 1993年08月13日
要約：
【要約】【構成】400nm以下の波長のパルスレーザ光を大面積化するビームエキスパンダと、前記大面積化されたパルスレーザ光を直線状断面を有するパルス光とするシリンドリカルレンズと、前記直線状断面を有するパルス光と平行な直線状パターンを有するマスクとを有する光加工装置。
請求項（抜粋）：
400nm以下の波長のパルスレーザ光を大面積化するビームエキスパンダと、前記大面積化されたパルスレーザ光を直線状断面を有するパルス光とするシリンドリカルレンズと、前記直線状断面を有するパルス光と平行な直線状パターンを有するマスクとを有することを特徴とする光加工装置。
IPC (3件)：
H01S 3/10
, H01L 21/302
, H01L 31/04
