特許

J-GLOBAL ID：200903076221704489

測定方法及び装置

発明者： 立川 仁
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 丸島 儀一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-259821
公開番号（公開出願番号）：特開平6-109418
出願日： 1992年09月29日
公開日（公表日）： 1994年04月19日
要約：

【要約】【目的】 変調された有限の広がりを持つ光束の、変調位相分布を簡易な構成で高精度に検出できるようにする。【構成】 光量感度を変化させ得る撮像手段を変調周波数と同一または略等しい周波数の参照信号で感度変調させ、この撮像手段で測定すべき光束を検出する。得られた信号を画像処理して光束の位相分布を測定する。

請求項（抜粋）：

周期的に強度変化をする、面状にひろがりを持つ光束の、前記周期強度変化の位相の面分布を測定する方法において、前記周期強度変化光の強度変化周波数と同一かまたは略等しい周波数を有する参照信号を生成させ、光量感度を変化させられる機能を持つ撮像手段を用い、前記撮像手段で前記光束を受光するとともに前記参照信号にて前記撮像手段の光量感度を変調させる事により、前記撮像手段からの検出信号に基づいて前記光束の周期強度変化位相の面分布を測定する測定方法。