特許
J-GLOBAL ID:200903076227466997
アリールヒドラゾ染料を含有する底部反射防止膜
発明者:
,
,
,
,
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
江崎 光史 (外3名)
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-516208
公開番号(公開出願番号):特表2001-501742
出願日: 1997年09月26日
公開日(公表日): 2001年02月06日
要約:
【要約】本発明は、新規の反射防止膜溶液およびそれをフォトリソグラフィーに使用する方法に関する。この反射防止膜溶液は、ポリマー、新規のアリールヒドラゾ染料および溶媒を含有しており、その際新規のアリールヒドラゾ染料は約180nm〜約450nmの放射線を吸収する。
請求項(抜粋):
フォトリソグラフィーに使用するための反射防止膜組成物において、a)ポリマー、b)以下の構造(式中、A1およびA2は、互いに無関係に、電子求引性基であり、R1は、H、(C1-C10)アルキル、(C1-C10)アルコキシ、ニトロ、ハライド、シアノ、アリール、アルキルアリール、アルケニル、ジシアノビニル、SO2CF3、COOZ、SO3Z、COZ、OZ、NZ2、SZ、SO2Z,NHCOZまたはSO2NZ2であり、ここで、Zは、Hまたは(C1-C10)アルキルであり、Yは、N=N、CW=CW、CW=NまたはN=CWの共役部分であり、ここでWは、H、(C1-C10)アルキルまたは(C1-C10)アルコキシであり、そしてmは、1-5である)を有する染料、およびc)溶媒を含有する上記反射防止膜組成物。
IPC (6件):
G03F 7/004 506
, C08K 5/00
, C08L101/16
, C09B 29/32
, G03F 7/11 503
, H01L 21/027
FI (6件):
G03F 7/004 506
, C08K 5/00
, C09B 29/32
, G03F 7/11 503
, H01L 21/30 574
, C08L101/00
前のページに戻る