特許

J-GLOBAL ID：200903076228924840

投影露光装置

発明者： 太田 和哉
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 立石 篤司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-035537
公開番号（公開出願番号）：特開平10-223519
出願日： 1997年02月04日
公開日（公表日）： 1998年08月21日
要約：

【要約】【課題】 マスクが巨大化してもスループットを低下させることなく所望の位置にマスクを位置制御できるようにする。【解決手段】 コントローラ20は、レチクル浮上プレート14上に載置されたレチクル12を空気穴14a〜14dから吹き出す空気圧を調整することにより、所定間隔だけ浮上するように制御する。コントローラ20は、この浮上したレチクル12の各側面に突き当てた制御棒16YS-1〜16YS-4、16XS-1〜16XS-4を、固定子16YG-1〜16YG-4、16XG-1〜16XG-4と走行子16YM-1〜16YM-4、16XM-1〜16XM-4から成るリニアモータを駆動制御することにより、レチクル12の側面を押圧する押圧力を調整し、レチクル12の2次元位置を制御する。このため、スループットを低下させることなくに所望の位置にマスクを制御することができる。

請求項（抜粋）：

マスクに形成されたパターンの像を投影光学系を介して感応基板上に投影露光する投影露光装置であって、前記マスクを非接触で浮上させる浮上手段と;前記マスクの側面を押圧して前記マスクの2次元面内の位置を制御する位置制御手段と;前記マスクの2次元面内の位置を計測する位置計測手段と;前記位置計測手段により計測された前記マスクの位置に基づいて前記位置制御手段を制御する制御部と;を有する投影露光装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 9/00

FI (4件)：

H01L 21/30 518 ,  G03F 9/00 A ,  G03F 9/00 H ,  H01L 21/30 515 F