マスク洗浄方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：渡邊隆 , 志賀正武 , 村山靖彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-330565
公開番号（公開出願番号）：特開2006-192426
出願日： 2005年11月15日
公開日（公表日）： 2006年07月27日
要約：

【課題】マスク洗浄方法を提供する。【解決手段】マスクに付着された物質にレーザビームを照射するステップと、マスクに付着された物質を除去するステップと、を含むことを特徴とするマスク洗浄方法である。これにより、マスクに付着された物質を迅速かつ効率的に除去できる。また、マスクに付着された物質を除去するステップは、マスクを超純水に浸漬するステップと、マスクを有機溶剤に浸漬するステップと、を含むものであることが好ましい。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

マスクに付着された物質にレーザビームを照射するステップと、前記マスクに付着された物質を除去するステップと、を含むことを特徴とするマスク洗浄方法。

IPC (8件)：

B08B 7/04 , H05B 33/10 , B08B 3/04 , B08B 3/08 , B08B 3/12 , B08B 3/10 , H01L 51/50 , G03F 1/00

FI (8件)：

B08B7/04 Z , H05B33/10 , B08B3/04 Z , B08B3/08 Z , B08B3/12 A , B08B3/10 Z , H05B33/14 A , G03F1/00 Z

Fターム (22件)：

2H095AC15 , 2H095BB30 , 3B116AA02 , 3B116BB01 , 3B116BB83 , 3B116BC01 , 3B116CC03 , 3B116CC05 , 3B201AA04 , 3B201AB01 , 3B201BB02 , 3B201BB85 , 3B201BB93 , 3B201BB95 , 3B201BC01 , 3B201CC01 , 3B201CC12 , 3K007AB18 , 3K007DB03 , 4K029CA01 , 4K029FA00 , 4K029HA01

引用特許：

審査官引用 (7件)

蒸着マスク及びこれを用いた蒸着方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2003-093676 出願人：日本精機株式会社
薄膜除去装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2002-260308 出願人：大日本スクリーン製造株式会社
光学素子の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-170785 出願人：キヤノン株式会社

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