特許
J-GLOBAL ID：200903076231263430
研磨液
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
北野 好人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-226319
公開番号（公開出願番号）：特開平5-067600
出願日： 1991年09月06日
公開日（公表日）： 1993年03月19日
要約：
【要約】【目的】本発明は、素子分離溝内に残すように多結晶シリコンを研磨するのに適した研磨液に関し、多結晶シリコンを研磨しても研磨残であるポリ突起が発生しないような研磨液を提供することを目的とする。【構成】有機化合物を溶解したアルカリ溶液と砥粒とを含む研磨液において、無機化合物を溶解したアルカリ溶液の陽イオンが添加され、pHが12.5以下であるように構成する。
請求項（抜粋）：
有機化合物を溶解したアルカリ溶液と砥粒とを含む研磨液において、無機化合物を溶解したアルカリ溶液の陽イオンが添加され、pHが12.5以下であることを特徴とする研磨液。
IPC (3件)：
H01L 21/304 321
, C09K 3/14
, C09K 13/02
