ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法

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出願人/特許権者：
代理人 (5件)：棚井澄雄 , 志賀正武 , 青山正和 , 鈴木三義 , 柳井則子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-416584
公開番号（公開出願番号）：特開2005-173468
出願日： 2003年12月15日
公開日（公表日）： 2005年06月30日
要約：

【課題】 LERの低減、解像性に優れたポジ型レジスト組成物、該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法を提供すること。【解決手段】 (A)酸の作用によりアルカリ可溶性が増大する樹脂成分として、多環式基含有酸解離性溶解抑制基を含む(メタ)アクリル酸エステルから誘導される構成単位(a1)、ラクトン含有単環または多環式基を含む(メタ)アクリル酸エステルから誘導される構成単位(a2)、水酸基含有多環式基を含む(メタ)アクリル酸エステルから誘導される構成単位(a3)、および前記構成単位(a2)、(a3)以外の多環式基含有非酸解離性溶解抑制基を含む(メタ)アクリル酸エステルから誘導される構成単位(a4)を含む共重合体、(B)露光により酸を発生する酸発生剤成分として、下記一般式(b-1)または(b-2)で表される少なくとも1種のスルホニウム化合物を含有するポジ型レジスト組成物。【化1】【選択図】なし

請求項（抜粋）：

(A)酸の作用によりアルカリ可溶性が増大する樹脂成分、および(B)露光により酸を発生する酸発生剤成分を含有するポジ型レジスト組成物であって、前記樹脂成分(A)が、多環式基含有酸解離性溶解抑制基を含む(メタ)アクリル酸エステルから誘導される構成単位(a1)、ラクトン含有単環または多環式基を含む(メタ)アクリル酸エステルから誘導される構成単位(a2)、水酸基含有多環式基を含む(メタ)アクリル酸エステルから誘導される構成単位(a3)、および前記構成単位(a2)、(a3)以外の多環式基含有非酸解離性溶解抑制基を含む(メタ)アクリル酸エステルから誘導される構成単位(a4)を含む共重合体であり、前記酸発生剤成分(B)が、下記一般式(b-1)または(b-2)

IPC (4件)：

G03F7/004 , C08F220/18 , G03F7/033 , H01L21/027

FI (4件)：

G03F7/004 503A , C08F220/18 , G03F7/033 , H01L21/30 502R

Fターム (30件)：

2H025AA02 , 2H025AA03 , 2H025AB16 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE07 , 2H025BE10 , 2H025BG00 , 2H025CA48 , 2H025CB14 , 2H025CB41 , 2H025CB45 , 2H025CB55 , 2H025CC20 , 2H025FA12 , 4J100AL08P , 4J100AL08Q , 4J100AL08R , 4J100AL08S , 4J100BA03R , 4J100BA20P , 4J100BC09P , 4J100BC09R , 4J100BC09S , 4J100BC12P , 4J100BC12S , 4J100BC53Q , 4J100CA06 , 4J100DA01 , 4J100JA38

引用特許：

出願人引用 (1件)

ポジ型レジスト組成物及びレジストパターンの形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-369340 出願人：東京応化工業株式会社

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