特許
J-GLOBAL ID：200903076252116860
走査型露光装置およびデバイス製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
伊東 哲也 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-153694
公開番号（公開出願番号）：特開平11-329954
出願日： 1998年05月20日
公開日（公表日）： 1999年11月30日
要約：
【要約】【課題】 低振動の走査型露光装置およびこれを用いたデバイス製造方法を提供する。【解決手段】 原版ステージ2と、基板ステージ13と、原版ステージ上に載置された原版1を照明する照明系14と、照明系によって照明された原版のパターンを基板ステージ上に載置された感光基板上に投影する投影光学系12と、前記照明系の照明光を遮光するマスキングブレードとを備え、このマスキングブレードにより原版上のパターン領域以外が照明されないように遮光しつつ、照明系および投影光学系に対して原版ステージおよび基板ステージにより原版と感光基板を同期走査させながら原版上のパターンを感光基板上に転写露光する走査型露光装置において、マスキングブレード3を原版ステージ上に設ける。あるいはマスキングブレードを原版ステージとほぼ同一水平面上に配置し、パターン領域以外が照明されないように遮光が行われるように、原版ステージとは反対方向に移動する。
請求項（抜粋）：
原版ステージと、基板ステージと、前記原版ステージ上に載置された原版を照明する照明系と、前記照明系によって照明された前記原版のパターンを前記基板ステージ上に載置された感光基板上に投影する投影光学系と、前記照明系の照明光を遮光するマスキングブレードとを備え、このマスキングブレードにより前記原版上のパターン領域以外が照明されないように遮光しつつ、前記照明系および投影光学系に対して前記原版ステージおよび基板ステージにより前記原版と感光基板を同期走査させながら前記原版上のパターンを前記感光基板上に転写露光する走査型露光装置において、前記マスキングブレードを前記原版ステージ上に設けたことを特徴とする走査型露光装置。
IPC (2件)：
FI (3件)：
H01L 21/30 518
, G03F 7/22 H
, H01L 21/30 503 F
