特許
J-GLOBAL ID：200903076257919147
荷電粒子ビーム描画装置における矩形ビームのサイズ及び位置決め調整方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
井島 藤治 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-016192
公開番号（公開出願番号）：特開平7-226361
出願日： 1994年02月10日
公開日（公表日）： 1995年08月22日
要約：
【要約】【目的】 正確に簡単に矩形ビームのサイズや矩形ビームの位置決め偏向器の調整を行うことかできる矩形ビームの調整方法を実現する。【構成】 矩形に成形されたビームをナイフエッジ32の開口37部分に照射する。そして、矢印Xの方向に電子ビームを2回走査し、それぞれの走査に基づくファラデーカップ33の検出信号を、微分回路34によって微分し、コンピュータ21を介してメモリー36に記憶させる。第1回目と第2回目の電子ビームの走査は、矩形ビームのサイズ分走査の始点がずらされているため、実際の矩形ビームのサイズが規定通りであると、2つの信号を重ね合わせた信号の繋ぎ目はフラットとなる。しかしながら、矩形ビームのサイズが規定の長さからずれていると、信号の繋ぎ目は凹みが出たり、逆に出っ張ったりする。この重ね合わせ信号の繋ぎ目により規定通りのサイズとなるように装置の調整を行う。
請求項（抜粋）：
第1のアパーチャの開口像を第2のアパーチャ上に結像し、第2のアパーチャの開口を透過した矩形断面の荷電粒子ビームを被描画材料上に投射するようにした荷電粒子ビーム描画装置において、単位サイズに成形した単位矩形ビームを直線状の境界部を横切って実質的に2回の走査を行い、境界部によって影響されたビームを検出し、その検出信号を微分した2種の信号をメモリーに記憶すると共に、この記憶の際、それぞれの信号を相互に単位矩形ビームの単位サイズ分ずらして記憶させ、メモリー内に記憶された2種の信号の重ね合わせ信号に基づいて、成形された矩形ビームのサイズの調整を行うようにした荷電粒子ビーム描画装置における矩形ビームのサイズ調整方法。
FI (2件)：
H01L 21/30 541 Q
, H01L 21/30 541 E
