特許

J-GLOBAL ID：200903076274121736

シャワー装置

発明者： 木村 潤 ,  小林 博記 ,  竹林 靖浩 ,  藤田 弘 ,  山口 和美
出願人/特許権者： 東陶機器株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-026212
公開番号（公開出願番号）：特開2001-212020
出願日： 2000年02月03日
公開日（公表日）： 2001年08月07日
要約：

【要約】【課題】脱塩素機構を備えたシャワー装置において、塩素を除去した後の残水に一般細菌が繁殖しない様にすることにある。【解決手段】先端にシャワー散水部を備えたシャワーヘッドと、このシャワ散水部より上流側に設けられた脱塩素機構部とを備えたシャワー装置において、シャワーヘッドの残水部に抗菌処理手段を設ける。

請求項（抜粋）：

先端にシャワー散水板を備えた合成樹脂製シャワーヘッドと、このシャワー散水板より上流側に設けられた脱塩素機構部とを備えたシャワー装置において、上記シャワーヘッドの残水部に抗菌処理手段を設けたことを特徴とするシャワー装置。

IPC (4件)：

A47K 3/28 ,  C02F 1/50 510 ,  C02F 1/50 520 ,  C02F 1/50 531

FI (4件)：

C02F 1/50 510 A ,  C02F 1/50 520 A ,  C02F 1/50 531 E ,  A47K 3/22

Fターム (1件)：

2D032FA04