特許

J-GLOBAL ID：200903076291703854

気相成長装置

発明者： 河合 弘治 ,  榎本 昌久 ,  和田 伸一
出願人/特許権者： ソニー株式会社
代理人 (1件)： 松隈 秀盛
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-129799
公開番号（公開出願番号）：特開平6-338456
出願日： 1993年05月31日
公開日（公表日）： 1994年12月06日
要約：

【要約】【目的】 安定して、一様な膜厚の気相成長を行うことができるようにする。【構成】 被気相成長基体が配置される気相成長反応容器の原料ガス導入部3が複数に分割された構成とする。

請求項（抜粋）：

被気相成長基体が配置される気相成長反応容器の原料ガス導入部が複数に分割されてなることを特徴とする気相成長装置。