転写工程におけるマスクの位置合わせ方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：廣江武典
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-122724
公開番号（公開出願番号）：特開平6-333797
出願日： 1993年05月25日
公開日（公表日）： 1994年12月02日
要約：

【要約】【目的】マスクの位置ずれを容易且つ正確に補正することができる転写工程におけるマスクの位置合わせ方法を、簡単な手段によって提供すること。【構成】マスクに形成されたパターンを基材に転写する転写工程におけるマスクの位置合わせ方法であって、基材とマスクとの各々にアライメントマーク60a、60bを備えると共に、各アライメントマーク60a、60bを、互いに重ね合わせることにより各々の外形の間に隙間61を形成する形状とし、隙間61を検出することによりマスクの位置ずれを補正した。

請求項（抜粋）：

マスクに形成されたパターンを基材に転写する転写工程における前記マスクの位置合わせ方法であって、基材とマスクとの各々にアライメントマークを備えると共に、これら各アライメントマークを、互いに重ね合わせることにより各々の外形の間に隙間を形成する形状とし、前記隙間を検出することによりマスクの位置ずれを補正することを特徴とする転写工程におけるマスクの位置合わせ方法。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , G03F 1/08

FI (2件)：

H01L 21/30 311 B , H01L 21/30 301 M

引用特許：

審査官引用 (4件)

特開平2-046458
特開昭57-088728
特開平2-046458

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