特許

J-GLOBAL ID：200903076292960532

Cr含有電着物上のクロメート処理制御方法

発明者： 圓山 勝俊 ,  宮内 優二郎 ,  斉藤 勝士
出願人/特許権者： 新日本製鐵株式会社
代理人 (1件)： 椎名 彊 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-170772
公開番号（公開出願番号）：特開平7-026385
出願日： 1993年07月12日
公開日（公表日）： 1995年01月27日
要約：

【要約】【目的】 本発明は、Cr含有電着物上のクロメート処理制御方法に関するもので、特に電着層中に存在するCrとクロメート皮膜中のCrを層別に分離定量する事を目的とする。【構成】 めっき表面にCrを含有する電着層を有し、その上にクロメート処理を行うのに際し、クロメート液中に添加材としてリン酸、ホウ酸、フッ酸、ケイ酸の1種以上をクロム酸に対して5〜30%の割合で含有させ、蛍光X線で皮膜中のP,F,Siを測定することによってクロメート付着量を制御すること。

請求項（抜粋）：

めっき表面にCrを含有する電着層を有し、その上にクロメート処理を行うに際し、クロメート液中に添加材としてリン酸、ホウ酸、フッ酸、ケイ酸の1種以上をクロム酸に対して5〜30%の割合で含有させ、蛍光X線で皮膜中のP,B,F,Siを測定することによってクロメート付着量を制御することを特徴とするCr含有電着物上のクロメート処理制御方法。

IPC (2件)：

C23C 22/77 ,  C23C 22/24

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開昭55-021556
  
• 特開昭63-128199