特許

J-GLOBAL ID：200903076293682676

ボイルオフガス処理装置

発明者： 吉田 泰樹 ,  高久 晃一 ,  斗ヶ沢 秀一
出願人/特許権者： 本田技研工業株式会社
代理人 (1件)： 志賀 正武 (外5名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-300690
公開番号（公開出願番号）：特開2002-106791
出願日： 2000年09月29日
公開日（公表日）： 2002年04月10日
要約：

【要約】【課題】 液体水素貯蔵タンクから排出される水素のボイルオフガスを処理するボイルオフガス処理装置の小型軽量化を図る。【解決手段】 液体水素貯蔵タンク5内で生じたボイルオフガス11を、開放弁7とボイルオフガス排出管13を介して水素吸蔵タンク8に導く。水素吸蔵タンク8内にアセトン21を収容するとともに、担体に水素化触媒を担持してなる触媒層18を水素吸蔵タンク8内に設ける。水素吸蔵タンク8に導入されたボイルオフガス11は、分配管15、分岐管16を通り、ガラスフィルタ17からアセトン21内に放出される。水素吸蔵タンク8のガス流出口19に水素分離膜20を設け、ガス流出口19と、燃料電池2に連なる第1水素供給管4とを、第2水素供給管24によって接続する。

請求項（抜粋）：

液体水素を貯蔵する液体水素貯蔵タンクと、水素を貯蔵するカルボニル基を含んだ有機化合物を収容する水素吸蔵タンクと、液体水素貯蔵時に前記液体水素貯蔵タンク内で発生するボイルオフガスを前記水素吸蔵タンクに排出するボイルオフガス排出手段と、を備えたことを特徴とするボイルオフガス処理装置。

IPC (3件)：

F17C 11/00 ,  F17C 13/00 302 ,  H01M 8/06

FI (3件)：

F17C 11/00 C ,  F17C 13/00 302 A ,  H01M 8/06 R

Fターム (6件)：

3E072AA03 ,  3E072EA10 ,  3E073DD02 ,  5H027BA13 ,  5H027BA16 ,  5H027CC06

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 水素貯蔵利用装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-070611   出願人：三洋電機株式会社
• 特公昭53-014513
  
• 水素放出装置ならびにその利用装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-117018   出願人：三洋電機株式会社
• ガス貯蔵性有機金属錯体、その製造方法およびガス貯蔵装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-013696   出願人：大阪瓦斯株式会社