特許

J-GLOBAL ID：200903076296623930

ガラス基板への内側が平滑な微細孔の形成方法

発明者： 東儀 俊秀 ,  青木 剛
出願人/特許権者： 凸版印刷株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-046952
公開番号（公開出願番号）：特開2004-256331
出願日： 2003年02月25日
公開日（公表日）： 2004年09月16日
要約：

【課題】DNAのスポット用孔を有するスライドガラスにスポット用孔を形成する際に、フッ酸のような劇薬を使用せずに内側が平滑なスポット用孔を安全に容易に形成することのできるガラス基板への内側が平滑な微細孔の形成方法を提供すること。【解決手段】ガラス基板上に、耐磨耗性レジストパターン40を形成し、サンドブラストによって、耐磨耗性レジストパターンの開口部から露出したガラス基板表面に微細孔42を形成し、ガラス基板を加熱し、微細孔の内側の荒い粗面を流動させて平滑な面に形成すること。【選択図】図5

請求項（抜粋）：

ガラス基板へ微細孔を形成する方法において、 1)ガラス基板表面上に、微細孔となる部位を開口部とする耐磨耗性レジストパターンを形成し、 2)サンドブラストによって、該耐磨耗性レジストパターンの開口部から露出したガラス基板表面に微細孔を形成し、 3)該微細孔が形成されたガラス基板を加熱し、該微細孔の内側の荒い粗面を流動させて平滑な面に形成し、 内側が平滑な微細孔を形成することを特徴とするガラス基板への内側が平滑な微細孔の形成方法。

IPC (4件)：

C03C19/00 ,  B24C1/04 ,  G01N33/53 ,  G01N37/00

FI (4件)：

C03C19/00 A ,  B24C1/04 B ,  G01N33/53 M ,  G01N37/00 102

Fターム (5件)：

4G059AA08 ,  4G059AB06 ,  4G059AB09 ,  4G059AB11 ,  4G059AC01