特許

J-GLOBAL ID：200903076303483120

微細構造化部品を製造するためのマイクロリソグラフィ投影露光装置及び方法

発明者： グルナー,トラルフ ,  ゲ,ベルント
出願人/特許権者： カール・ツァイス・エスエムティー・アーゲー
代理人 (4件)： 熊倉 禎男 ,  大塚 文昭 ,  西島 孝喜 ,  須田 洋之
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-539538
公開番号（公開出願番号）：特表2009-516367
出願日： 2006年11月08日
公開日（公表日）： 2009年04月16日
要約：

マイクロリソグラフィ投影露光装置(PEA)において微細構造化部品を製造するための方法において、構造(ST1〜ST6)のパターン(M)が投影対物レンズ(PL)の像平面に結像される。本発明によれば、像平面における投影光の線量分布は、構造の像が構造の周囲領域の内側に存在する構造のトポグラフィから少なくとも本質的に独立であるように影響を及ぼされる。

請求項（抜粋）：

構造(ST1〜ST6)のパターン(M)が投影対物レンズ(PL)の像平面に結像されるマイクロリソグラフィ投影露光装置(PEA)において微細構造化部品を製造する方法であって、 像平面における投影光の線量分布が、構造の像が構造の周囲領域の内側に存在する構造のトポグラフィから少なくとも本質的に独立であるように影響を及ぼされることを特徴とする、製造する方法。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20

FI (3件)：

H01L21/30 515D ,  H01L21/30 518 ,  G03F7/20 521

Fターム (10件)：

5F046BA05 ,  5F046CB05 ,  5F046CB08 ,  5F046CB10 ,  5F046CB12 ,  5F046CB13 ,  5F046CB15 ,  5F046CB23 ,  5F046DA01 ,  5F046DA02

引用特許：

出願人引用 (3件)

• 欧州特許第0952491A2号明細書
  
• 国際公開第2005/040927A2号パンフレット
  
• 米国特許第2005/0146704A1号明細書