特許

J-GLOBAL ID：200903076303830237

粒子製造方法および粒子製造装置

発明者： 松井 功
出願人/特許権者： 株式会社東芝
代理人 (1件)： 大胡 典夫 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-077210
公開番号（公開出願番号）：特開2001-261335
出願日： 2000年03月17日
公開日（公表日）： 2001年09月26日
要約：

【要約】【課題】 本発明は反応容器内で生成された粒子の粒子成長と同時に進行する凝集による粒子の大粒子化を抑制する粒子製造装置および粒子製造方法の提供を目的とする。【解決手段】 粒子製造装置は、反応容器1と、反応容器1に原料ガスを導入する原料ガス導入部2と、反応容器1に表面付着物を導入する表面付着物導入部3と、反応容器1にキャリアガスを導入する不活性ガス導入部4と、反応容器1に設けられるヒータ5と、排出部6と、排出部6を介して反応容器1から排出される生成された微粒子と不活性ガスが導入されるクーラ7と、クーラ7を通過した粒子を保存する保存部8と、保存部に貯蔵される粒子を含む溶媒から液体成分や表面付着物を取り除くヒータ9と、粒子径の異なる粒子の中から所望の大きさの粒子のみを抽出するフィルタ10とから構成される。

請求項（抜粋）：

複数の原料ガスを反応容器に導入し、前記反応容器内で前記原料ガスを励起させることにより、前記原料ガスを反応させて粒子を製造する粒子製造方法において、前記複数の原料ガスと、前記粒子表面に付着し、前記粒子を正または負のいずれかに帯電させる気体状の表面付着物とが、前記反応容器に導入される行程と、前記反応容器内の前記原料ガスを励起することによって、前記反応容器内で前記原料ガスを反応させて前記粒子が生成されるとともに、前記粒子表面に前記表面付着物を付着させる行程と、前記反応容器から前記粒子を取り出す行程とを有することを特徴とする粒子製造方法。

IPC (3件)：

C01G 9/08 ,  B22F 1/02 ,  B22F 9/28

FI (3件)：

C01G 9/08 ,  B22F 1/02 B ,  B22F 9/28 Z

Fターム (7件)：

4K017AA01 ,  4K017BA09 ,  4K017EK04 ,  4K018BA11 ,  4K018BB05 ,  4K018BC29 ,  4K018BD10