特許

J-GLOBAL ID：200903076319881907

ポジ型シリコーン含有感光性組成物

発明者： 安波 昭一郎 ,  河邊 保雅
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (1件)： 小栗 昌平 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-164834
公開番号（公開出願番号）：特開2001-343749
出願日： 2000年06月01日
公開日（公表日）： 2001年12月14日
要約：

【要約】【課題】 半導体デバイスの製造において、ArFやKrFを光源とする遠紫外線領域の露光に対応し得、ラインエッジラフネスが改善され、さらに解像力、レジスト形状、焦点深度などのレジスト諸特性にも優れた遠紫外線露光用ポジ型感光性組成物を提供すること。【解決手段】 (a)側鎖にシリコン原子を有し、かつアルカリには不溶性又は難溶性で、酸の作用によりアルカリ水溶液には可溶となるポリマー、(b)活性光線もしくは放射線の照射により酸を発生する化合物、(c)特定の部分構造を分子内に少なくとも一つ有する含窒素化合物、を含有することを特徴とするポジ型シリコン含有感光性組成物。

請求項（抜粋）：

(a)側鎖にシリコン原子を有し、かつアルカリには不溶性又は難溶性で、酸の作用によりアルカリ水溶液には可溶となるポリマー、(b)活性光線もしくは放射線の照射により酸を発生する化合物、(c)下記一般式(A)で表される部分構造を分子内に少なくとも一つ有する含窒素化合物、を含有することを特徴とするポジ型シリコン含有感光性組成物。【化1】

IPC (13件)：

G03F 7/039 601 ,  C08F220/00 ,  C08F222/06 ,  C08F222/40 ,  C08F230/08 ,  C08K 5/00 ,  C08K 5/16 ,  C08K 5/32 ,  C08L 43/04 ,  C08L101/02 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/075 511 ,  H01L 21/027

FI (13件)：

G03F 7/039 601 ,  C08F220/00 ,  C08F222/06 ,  C08F222/40 ,  C08F230/08 ,  C08K 5/00 ,  C08K 5/16 ,  C08K 5/32 ,  C08L 43/04 ,  C08L101/02 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/075 511 ,  H01L 21/30 502 R

Fターム (42件)：

2H025AA00 ,  2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD01 ,  2H025BE00 ,  2H025BG00 ,  2H025CC20 ,  2H025FA03 ,  2H025FA17 ,  2H025FA41 ,  4J002AA031 ,  4J002BG001 ,  4J002BH021 ,  4J002BQ001 ,  4J002ES007 ,  4J002EU186 ,  4J002EU216 ,  4J002EV216 ,  4J002EV246 ,  4J002EV256 ,  4J002FD206 ,  4J002FD207 ,  4J002GP03 ,  4J100AK32Q ,  4J100AL03R ,  4J100AL08R ,  4J100AL08S ,  4J100AL39Q ,  4J100AL41Q ,  4J100AM02R ,  4J100AM43S ,  4J100AP16P ,  4J100BA02Q ,  4J100BA72S ,  4J100BC53R ,  4J100CA04 ,  4J100CA05 ,  4J100CA06 ,  4J100JA37