特許

J-GLOBAL ID：200903076324784057

レーザービーム照射の均一性を向上する方法

発明者： 成 序三
出願人/特許権者： 成 序三
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-159105
公開番号（公開出願番号）：特開平10-314970
出願日： 1997年05月14日
公開日（公表日）： 1998年12月02日
要約：

【要約】【課題】 線条形ビームホモジナイザーを用いてレーザーを加工面に照射する際に、ビーム長軸方向の強度分布の不均一性を克服して、高度な均一照射結果を得られる。【解決手段】 線条形レーザービームを照射する際に、短軸方向のスキャンを行う同時に長軸方向にもビームを小刻みに往復移動させることによる平滑効果で、被加工物への照射の均一性を向上させる。

請求項（抜粋）：

レーザービームを用いて表面改質等を行う場合に、ホモジナイザーを通して成形した線条形レーザービームを被加工物に照射する際に、線条ビーム短軸方向にレーザービームのスキャンを行うと同時に、照射の光量分布の均一性を向上する為、ビーム長軸方向にもビームを小刻みに往復に振らす、又は、被加工物を小刻みに往復に移動する照射方法。

IPC (4件)：

B23K 26/04 ,  B23K 26/00 ,  B23K 26/06 ,  B23K 26/08

FI (6件)：

B23K 26/04 Z ,  B23K 26/00 E ,  B23K 26/00 N ,  B23K 26/06 C ,  B23K 26/06 E ,  B23K 26/08 B