特許

J-GLOBAL ID：200903076325263646

ヘアラインパターンの生成方法および生成装置

発明者： 河合 直樹 ,  大嶋 健 ,  有吉 俊雄 ,  三木 太 ,  神力 哲夫 ,  岡本 優
出願人/特許権者： 大日本印刷株式会社
代理人 (1件)： 志村 浩
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-195388
公開番号（公開出願番号）：特開平10-016375
出願日： 1996年07月05日
公開日（公表日）： 1998年01月20日
要約：

【要約】【課題】 自由度の高いヘアラインパターンを容易に生成する。【解決手段】 所定方向にほぼ沿って伸びる多数のヘアラインHを平面上に配置してなるヘアラインパターンをコンピュータによる画像処理で生成する。それぞれ所定の行幅Gをもった複数の行を定義し、これら複数の行を所定の行間隔Kをあけて縦方向に隣接配置する。各行ごとに、その行幅Gに応じた複数のヘアラインHを発生させ、これら複数のヘアラインを所定のライン間隔Sをあけて横方向に隣接配置して割り付ける。各ヘアラインHは、乱数により得られたW画素分の幅をもち、乱数により得られたL画素分の長さをもった細長い矩形図形を定義し、所定の振幅をもった一次元揺らぎ場を利用して、この矩形図形を構成する各画素を幅方向に変位させることにより生成する。

請求項（抜粋）：

所定方向にほぼ沿って伸びる多数のヘアラインを平面上に配置してなるヘアラインパターンを生成する方法であって、パターン生成に必要なパラメータを設定する段階と、それぞれ所定の行幅Gをもった複数の行を定義し、これら複数の行を所定の行間隔Kをあけて縦方向に隣接配置することにより割付領域を定義する段階と、前記各行ごとに、その行幅Gに応じた複数のヘアラインを発生させ、これら複数のヘアラインを所定のライン間隔Sをあけて横方向に隣接配置して割り付ける段階と、前記割付領域内に割り付けられた多数のヘアラインを示す画像データを出力する段階と、を有することを特徴とするヘアラインパターンの生成方法。

IPC (3件)：

B41M 3/06 ,  G06F 17/50 ,  G06T 11/00

FI (3件)：

B41M 3/06 A ,  G06F 15/60 680 G ,  G06F 15/72 350