特許
J-GLOBAL ID：200903076327508123
加工用電極
発明者：
出願人/特許権者：
,
代理人 (1件)：
柳野 隆生
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-259138
公開番号（公開出願番号）：特開平6-085059
出願日： 1992年09月01日
公開日（公表日）： 1994年03月25日
要約：
【要約】【目的】 ラジカル反応を利用した無歪精密加工装置に使用する電極であって、シリコン単結晶等の半導体若しくは導体又はガラスやセラミックス等の絶縁体に欠陥や熱的変質層を導入することなく高精度に加工することができ、溝切り加工を含む切断加工及び鏡面加工並びに穴開け加工等の加工を行うに際しても、その加工領域の全域へ常に一定量の反応ガスを供給できる加工用電極を提供することを目的とする。【構成】 導電性細線の内部であって長さ方向にガス供給路5を貫設するとともに、被加工物2の加工面6と略対面する側面に、ガス供給路に連通した噴出孔7を複数設けてなるワイヤー電極3の少なくとも一端から反応ガスを含む雰囲気ガスを供給してなる。
請求項（抜粋）：
電極に直流電圧若しくは交流電圧を印加し、その電界によって反応ガスに基づく中性ラジカルを生成し、該中性ラジカルと被加工物の加工面を構成する原子又は分子とのラジカル反応によって生成した揮発性物質を気化させて除去し、加工を進行させてなる無歪精密加工装置の加工用電極において、導電性細線の内部であって長さ方向にガス供給路を貫設するとともに、被加工物の加工面と略対面する側面に、ガス供給路に連通した噴出孔を複数設けてなるワイヤー電極の少なくとも一端から反応ガスを含む雰囲気ガスを供給してなることを特徴とする加工用電極。
IPC (2件)：
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