特許

J-GLOBAL ID：200903076330269458

反射光測定による被検査体の分析方法及び反射光測定による被検査体の分析装置

発明者： 熊谷 剛史 ,  河合 勲二 ,  大平落 嘉寛
出願人/特許権者： 三菱化学株式会社
代理人 (1件)： 真田 有
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-129948
公開番号（公開出願番号）：特開2002-323446
出願日： 2001年04月26日
公開日（公表日）： 2002年11月08日
要約：

【要約】【課題】 反射光測定による被検査体の分析方法及び反射光測定による被検査体の分析装置において、安価な構成で被検査体の分析を精度良く行なえるようにする。【解決手段】 被検査体が点着された測定用チップ1の点着領域に対して、該点着領域と略重なるような照射領域で照射光L1を照射し、該点着領域と略重なるような照射領域で照射された照射光L1の測定用チップ1からの反射光L2の状態を介して該被検査体の分析を行なう。

請求項（抜粋）：

被検査体に照射光を照射し、該照射光の該被検査体からの反射光の状態から、該被検査体に関して分析を行なう、反射光測定による被検査体の分析方法において、該被検査体が点着された測定用チップの点着領域に対して、該点着領域と略重なるような照射領域で該照射光を照射する第1ステップと、該点着領域と略重なるような照射領域で照射された該照射光の該測定用チップからの該反射光の状態を測定する第2ステップとをそなえて構成されていることを特徴とする、反射光測定による被検査体の分析方法。

FI (2件)：

G01N 21/27 C ,  G01N 21/27 A

Fターム (19件)：

2G059AA01 ,  2G059BB04 ,  2G059BB12 ,  2G059CC16 ,  2G059DD04 ,  2G059DD13 ,  2G059EE02 ,  2G059GG02 ,  2G059HH02 ,  2G059HH06 ,  2G059JJ05 ,  2G059JJ11 ,  2G059JJ12 ,  2G059JJ17 ,  2G059KK01 ,  2G059KK04 ,  2G059MM01 ,  2G059MM03 ,  2G059MM12