特許

J-GLOBAL ID：200903076331928552

連続蒸着装置

発明者： 北畠 顕弘 ,  山田 敬治 ,  梶川 不二雄
出願人/特許権者： 三容真空工業株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-026566
公開番号（公開出願番号）：特開2003-226961
出願日： 2002年02月04日
公開日（公表日）： 2003年08月15日
要約：

【要約】【課題】 本発明は、例えば、多層構造の有機EL層の連続成膜を可能とする連続蒸着装置を提供するものである。【解決手段】 蒸着装置において、蒸着源が、外周に加熱用高周波コイルの巻回され、且つ内部に高周波コイルにより誘導発熱する発熱体を備えた筒状体と、筒状体内に粒状等の材料を不活性ガス又は反応性ガスとともに連続供給するための供給装置に接続された材料供給管とから構成され、しかも発熱体が筒状体内で適切な間隔を保持して設けられたことにある。

請求項（抜粋）：

真空チャンバ壁面に沿って周回移動する基板と、該基板に蒸着材料を成膜すべく壁面に沿って設けられた蒸発源とからなる蒸着装置において、蒸発源が、外周に加熱用高周波コイルの巻回され、且つ内部に高周波コイルによって誘導発熱する発熱体の設けられた筒状体と、該筒状体内に粒状等の材料を不活性ガス又は反応性ガスとともに連続供給するための供給装置に接続されている材料供給管とから構成され、しかも前記発熱体が筒状体内で適切な間隔を保持して設けられていることを特徴とする連続蒸着装置。

IPC (3件)：

C23C 14/26 ,  H05B 33/10 ,  H05B 33/14

FI (3件)：

C23C 14/26 B ,  H05B 33/10 ,  H05B 33/14 A

Fターム (10件)：

3K007AB18 ,  3K007DB03 ,  3K007FA01 ,  4K029BB02 ,  4K029BC07 ,  4K029BD00 ,  4K029DB10 ,  4K029DB15 ,  4K029DB19 ,  4K029JA02