特許
J-GLOBAL ID：200903076335447605
基準線或は基準点を投射する装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
森 厚夫
, 縣 浩介
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-167767
公開番号（公開出願番号）：特開2004-069684
出願日： 2003年06月12日
公開日（公表日）： 2004年03月04日
要約：
【課題】建築現場等で罫線や基準点を投射する半導体レ-ザ式投光装置で、上下の基準点を投射したり、罫線を長くするためのレ-ザビ-ム分割手段を提供する。【解決手段】三角プリズムの二面或は矩形透明板の一辺を研磨し、透明板の一面とこの研磨辺とを反射面とし、その二面の交わる稜線を半導体レ-ザのレ-ザビ-ムの中に挿入することにより一つのビ-ムを両方向に分割して、夫々を対象面に投射するようにし、更に要すれば分割された光束内に集光レンズを配置して投影される光点を明るくした。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
振子式に支承されて自動的に垂直姿勢を採る光学系保持体に搭載される光投射光学系を、二つの反射面を有する反射体が、その反射体の上記二つの反射面が交わる稜線が光源の半導体レ-ザから発射される光ビ-ムの中に位置するように挿入され、この稜線で交わる二つの反射面で上記レ-ザビ-ムの一部または全部を二方向に分割することでレ-ザビ-ムを二方向或は三方向に分割し、夫々のビ-ムを対象面に投射するように構成したことを特徴とする基準線或は基準点を投射する装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G01C15/00 103D
, G01C15/02
