流動層式予備還元炉の操業方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：高野茂
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-058764
公開番号（公開出願番号）：特開平10-251722
出願日： 1997年03月13日
公開日（公表日）： 1998年09月22日
要約：

【要約】【課題】高温含塵のプロセスガスを用いて流動層を形成する場合、分散板に設けた整流ノズルにダストが付着して、流動層式予備還元炉の操業を阻害する。長期間の連続操業においてもダストが付着しない操業方法を提供する。【解決手段】分散板3に設けた整流ノズル4からプロセスガスを吹き込んで鉱石の流動層7を形成し、鉱石を予熱及び/又は予備還元する流動層式予備還元炉1の操業方法において、プロセスガス中に炭材の粒子を3g/Nm3 以上の濃度で含有させる。その際、プロセスガスを、整流ノズルのガス流路の方向と実質的に平行な方向で流動層式予備還元炉に導入することが好ましい。

請求項（抜粋）：

分散板に設けた整流ノズルからプロセスガスを吹き込んで鉱石の流動層を形成し、鉱石を予熱及び/又は予備還元する流動層式予備還元炉の操業方法において、前記プロセスガス中に炭材の粒子を3g/Nm3 以上の濃度で含有させることを特徴とする流動層式予備還元炉の操業方法。

IPC (3件)：

C21B 13/00 101 , C21B 11/00 , F27B 15/10

FI (3件)：

C21B 13/00 101 , C21B 11/00 , F27B 15/10

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