特許

J-GLOBAL ID：200903076347834248

レーザー光発生装置及び光源調整方法

発明者： 中杉 幹夫 ,  阿左見 純弥 ,  鍋田 昇 ,  冨田 健一
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 日比谷 征彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-143259
公開番号（公開出願番号）：特開平10-319338
出願日： 1997年05月16日
公開日（公表日）： 1998年12月04日
要約：

【要約】【課題】 レーザー光源から出射したレーザー光同士の間隔を容易に調整する。【解決手段】 複数の発光部を有する半導体レーザー光源14と、このレーザー光源14を保持しレーザー光源14から出射したレーザー光L1、L2を通過させる貫通孔21を有する鏡筒11とを備える。鏡筒11には走査光学系に対する上下左右方向を位置決めするボス部23と、前後方向を位置決めするフランジ部24とを設け、フランジ部24にはレーザー光源14の発光部の傾きを調整する際の基準となる基準面25、26と、鏡筒11の周方向を位置決めする位置決めピン27とを設ける。鏡筒11をボス部23と位置決めピン27によって位置決めし、レーザー光源14を回動して鏡筒11の基準面25又は26に対するレーザー光源14の発光部の傾きを調整する。

請求項（抜粋）：

複数の発光部を有する半導体レーザー光源と、該レーザー光源を保持すると共に該レーザー光源から出射したレーザー光を通過させる貫通孔を有する保持部材とを備えたレーザー光発生装置において、前記保持部材に位置決め部を設けると共に、前記レーザー光源の前記発光部の傾きを前記位置決め部に対して調整して、前記レーザー光源を前記保持部材に固定したことを特徴とするレーザー光発生装置。

IPC (3件)：

G02B 26/10 ,  B41J 2/44 ,  H01S 3/18

FI (3件)：

G02B 26/10 Z ,  H01S 3/18 ,  B41J 3/00 D