特許
J-GLOBAL ID：200903076352599125
外観画像分類装置およびその方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高橋 明夫 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-265451
公開番号（公開出願番号）：特開2000-099727
出願日： 1998年09月18日
公開日（公表日）： 2000年04月07日
要約：
【要約】【課題】プロセスが変化した場合にも画像特徴抽出アルゴリズムを変更すること無く半導体等の欠陥を発生させる半導体等の製造状態(カテゴリー)を分類できるようにした外観画像分類装置およびその方法を提供することにある。【解決手段】製造状態を判定する画像を装置の画像表示部に表示し、装置ユーザが欠陥の特徴的な部位を装置に教示し、装置に備えられた教示部が装置ユーザが教示した部位の画像特徴量を自動的に抽出し、画像の製造状態を判定する判定部105は前記教示部106が抽出した画像特徴量を鑑みてその後取得した画像の分類を行う。
請求項（抜粋）：
被対象物についての教示用および分類用の外観画像を取得する画像取得部と、該画像取得部で取得された教示用および分類用の外観画像を記憶するメモリ部と、該メモリ部で記憶された教示用の外観画像を表示する画像表示部と、該画像表示部で表示された教示用の外観画像における特徴的な外観を示す局所的な部位を指定して入力する入力手段と、該入力手段によって指定された局所的な部位における画像の特徴量を抽出し、この抽出された局所的な部位における画像の特徴量を基に、分類判定する判定基準を教示する教示部と、該教示部で教示された判定条件に基いて、前記画像取得部で取得されてメモリ部に記憶された分類用の外観画像に対して該外観画像の状態を分類判定する判定部とを備えたことを特徴とする外観画像分類装置。
IPC (6件)：
G06T 7/00
, G01B 11/30
, G01N 21/88
, H01J 37/22 502
, H01L 21/66
, G01N 23/225
G06F 15/62 405 A
, G01B 11/30 D
, H01J 37/22 502 H
, H01L 21/66 J
, H01L 21/66 Z
, G01N 23/225
, G01N 21/88 645 B
, G06F 15/70 460 B
