特許
J-GLOBAL ID:200903076372939020
毛髪化粧料
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
有賀 三幸 (外3名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-284907
公開番号(公開出願番号):特開平7-138132
出願日: 1993年11月15日
公開日(公表日): 1995年05月30日
要約:
【要約】【構成】 次の成分(a)及び(b):(a)ジメチルポリシロキサン、メチルフェニルポリシロキサン、ポリエーテル変性シリコーン、アミノ変性シリコーン及びアルキル変性シリコーンから選ばれる不揮発性シリコーン類(b)チオール類、スルフィド類及びジスルフィド類から選ばれる含硫化合物を含有する毛髪化粧料並びに、これに更に、オクチルメトキシシンナメート、ベンゾフェノン、ベンゾフェノン誘導体、パラアミノ安息香酸類及びベンゾイルメタン類から選ばれる紫外線吸収剤を含有した毛髪化粧料。【効果】 紫外線による毛髪の損傷、色調の変化などのダメージを抑え、優れたヘアケア効果を有するものであり、しかも感触が良好で、安定性及び安全性にも優れている。
請求項(抜粋):
次の成分(a)及び(b):(a)ジメチルポリシロキサン、メチルフェニルポリシロキサン、ポリエーテル変性シリコーン、アミノ変性シリコーン及びアルキル変性シリコーンから選ばれる不揮発性シリコーン類(b)チオール類、スルフィド類及びジスルフィド類から選ばれる含硫化合物を含有する毛髪化粧料。
引用特許:
審査官引用 (6件)
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特開昭63-188618
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特開平2-255608
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特開平4-154714
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人毛用還元剤及び人毛用化粧料
公報種別:公開公報
出願番号:特願平3-216413
出願人:株式会社資生堂
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毛髪処理剤組成物
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-090721
出願人:花王株式会社
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特開平3-153617
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