特許
J-GLOBAL ID:200903076373343023

シリコン組成物及び表面処理剤

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-145501
公開番号(公開出願番号):特開2004-315771
出願日: 2003年04月17日
公開日(公表日): 2004年11月11日
要約:
【課題】保存安定性の良いシリコン組成物及び表面処理剤を提供する。【解決手段】式(1)で表される不飽和エーテルを必須成分とし、ケイ素原子に1以上のイソシアナート基が直接結合したケイ素化合物からなる安定化された組成物を用いる事で、シリルイソシアナート化合物の保存安定性を改善できる。また、この組成物とアミノ樹脂、末端にヒドロキシ基を有するポリオルガノシロキサン、アミノ樹脂の架橋触媒、帯電防止剤及び溶剤の単独若しくは2種類以上を組み合わせ得られる表面処理剤をフィルム等に処理する事により、120°C程度の硬化温度で剥離性、滑り性や帯電防止性を付与する事ができる。
請求項(抜粋):
式(1)で表される不飽和エーテルを必須成分とし、ケイ素原子に1以上のイソシアナート基が直接結合したケイ素化合物からなる安定化された組成物。
IPC (7件):
C09D4/00 ,  B05D7/24 ,  C09D161/20 ,  C09D161/30 ,  C09D183/04 ,  C09D183/06 ,  C09D183/08
FI (7件):
C09D4/00 ,  B05D7/24 302Y ,  C09D161/20 ,  C09D161/30 ,  C09D183/04 ,  C09D183/06 ,  C09D183/08
Fターム (50件):
4D075CA07 ,  4D075CA09 ,  4D075CA22 ,  4D075DA04 ,  4D075DA06 ,  4D075DB13 ,  4D075DB18 ,  4D075DB35 ,  4D075DB36 ,  4D075DB37 ,  4D075DB38 ,  4D075DB39 ,  4D075DB43 ,  4D075DB48 ,  4D075DC36 ,  4D075DC40 ,  4D075EA07 ,  4D075EB32 ,  4D075EB38 ,  4D075EB43 ,  4D075EB45 ,  4D075EB52 ,  4D075EC07 ,  4D075EC37 ,  4D075EC60 ,  4J038DA001 ,  4J038DA142 ,  4J038DA162 ,  4J038DA172 ,  4J038DL032 ,  4J038FA211 ,  4J038FA271 ,  4J038FA281 ,  4J038JB01 ,  4J038JC10 ,  4J038JC22 ,  4J038JC24 ,  4J038JC37 ,  4J038KA04 ,  4J038KA06 ,  4J038KA12 ,  4J038MA07 ,  4J038MA15 ,  4J038NA10 ,  4J038NA12 ,  4J038PB02 ,  4J038PC03 ,  4J038PC07 ,  4J038PC08 ,  4J038PC10

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