特許
J-GLOBAL ID：200903076374162642

露光装置およびデバイス製造方法

発明者：
坂本 英治

坂本 英治 について

, 
浅野 俊哉

浅野 俊哉 について

, 
井上 充

井上 充 について


出願人/特許権者：
キヤノン株式会社

キヤノン株式会社 について


代理人 (1件)： 伊東 哲也 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-304039
公開番号（公開出願番号）：特開2001-126974
出願日： 1999年10月26日
公開日（公表日）： 2001年05月11日
要約：
【要約】 (修正有)【課題】 アライメント光軸と露光光軸が離れていても、ステージ上の反射鏡等を長くする必要がないようにするとともにスループットおよび精度を向上させる露光装置及びデバイス製造方法を提供する。【解決手段】 原版のパターンを露光する露光手段と、ステージ1と、アライメント光学系と、所定方向に伸びた物体(反射鏡)8と、露光光軸に対する基板の位置決めを行う露光用位置計測手段6と、アライメント用位置計測手段7と、露光用位置計測手段による位置計測と前記アラント用位置計測手段の位置計測との間で切り換える切り換え手段とを有し、切り換えが行われるとき、前記露光用位置計測手段および前記アライメント用位置計測手段と前記物体との間の距離が極力小さくなっているように、基板の各露光位置についての露光順序およびアライメント計測の順序が決定される。
請求項（抜粋）：
順次位置決めされる基板上の各露光位置に原版のパターンを露光する露光手段と、前記基板の位置制御を行うためのステージと、前記基板についてアライメント計測を行うためのアライメント光学系と、前記ステージに固定された所定方向に伸びた物体と、前記ステージの前記所定方向にほぼ垂直な方向の位置を計測し前記露光光軸に対する前記基板の位置決めを行う露光用位置計測手段と、前記物体からの距離が前記物体から前記露光用位置計測手段までの距離とほぼ同一であり、前記ステージの前記所定方向にほぼ垂直な方向の位置を計測し前記アライメント光学系に対する前記基板の位置決めを行うアライメント用位置計測手段と、前記基板の位置制御のための位置計測を前記露光用位置計測手段による位置計測と前記アライメント用位置計測手段の位置計測との間で切り換える切り換え手段とを有し、前記切り換えが行われるとき、前記露光用位置計測手段および前記アライメント用位置計測手段と前記物体との間の距離が極力小さくなっているように、前記基板の各露光位置についての露光順序およびアライメント計測の順序が決定されることを特徴とする露光装置。
IPC (2件)：
H01L 21/027 ,  G03F 9/00
FI (3件)：
G03F 9/00 H ,  H01L 21/30 525 X ,  H01L 21/30 516 B
Fターム (6件)：
5F046BA04 ,  5F046BA05 ,  5F046CC01 ,  5F046CC14 ,  5F046CC16 ,  5F046FC05
引用特許：
出願人引用 (4件)
全件表示
審査官引用 (4件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM