特許

J-GLOBAL ID：200903076374347600

ポリシラン及びその製造方法

発明者： 小谷 準 ,  鈴木 将人 ,  三枝 武夫 ,  周 徳元
出願人/特許権者： 株式会社関西新技術研究所
代理人 (1件)： 間宮 武雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-357897
公開番号（公開出願番号）：特開平5-170913
出願日： 1991年12月25日
公開日（公表日）： 1993年07月09日
要約：

【要約】【目的】 狭い分子量分布及び規則構造を有し、反応の制御が容易で、高収率で合成され、モノマーの取扱いも容易なポリシランを得る。【構成】 フェニルノナメチルシクロペンタシランをアニオン性開始剤を使用して開環重合し、下記の反応式(式中、Phはフェニル基、Meはメチル基を示す)によりポリシランを合成する。

請求項（抜粋）：

化1の式(式中、Phはフェニル基、Rはアルキル基を示す)で表わされる繰返し単位により構成され、規則構造を有したポリシラン。【化1】

IPC (3件)：

C08G 77/60 NUM ,  H01L 21/027 ,  H01L 23/15

FI (2件)：

H01L 21/30 301 R ,  H01L 23/14 C